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電子工廠高級别潔淨廠房的環境要求

電子工廠高級别潔淨廠房的環境要求

電子工廠高級别潔淨廠房的環境要求

 電子工廠如大規模集成電路(LSI)、超大規模集成電路(VLSI)等微電子(IC)工廠,液晶顯示器(LCD)、彩色薄膜液晶顯示器(TFT-LCD)、等離子顯示器(PDP)以及發光二極管(LED)、有機電緻發光顯示器(OLED)、高分子有機電緻發光顯示器(PLED)等光電子工廠都離不開潔淨的生産環境。總的來說,電子工廠生産工藝對潔淨廠房環境的要求可用大、淨、精、純、嚴五個字來形容。

電子潔淨廠房

  大:生産工藝要求電子潔淨廠房的面積越來越大。就拿彩色薄膜液晶顯示器(TFT-LCD)生産用潔淨室的面積來說,5代TFT生産用潔淨室的面積約28000m2;6代TFT潔淨室的面積約40000m2;到了8代TFT生産用單間潔淨室的面積就大到80000m2以上。潔淨室内可停放20多架波音747飛機。

  淨:電子工廠,尤其是微電子(IC)前工序和光電子(TFT-LCD)前工序的潔淨室對環境潔淨度的要求越來越淨。例如,12時園片超大規模集成電路前工序光刻間的潔淨度要求高達1級(0.1um)也就是每立方英尺空氣中≥O.1um的粒子數不能超過1顆。相當于ISO1級。

  精:電子工廠生産工藝對環境空氣溫、濕度的控制精度要求越來越精。還以上述微電子的光刻間為例:其溫度精度為士0.1℃,相對濕度的精度為士3%。

  純:大規模集成電路前工序對生産用的高純水、高純氣體以及高純溶劑的純度要求越來越純。例如:對高純水而言,不僅對其電阻率有要求,而且對高純水中所含粒子、細菌、重金屬以及其他元素的離子成份都有嚴格的要求,随着生産工藝的發展,對其純度的要求也越來越高。可謂純之又純。

  嚴:電子工業生産不僅對環境的潔淨度,溫、濕度有嚴格的要求,同時對環境的聲(噪聲)、光(照度)、電(靜電)、磁(電磁場屏蔽)、振(微振)等都有嚴格的要求。尤其微電子生産,對環境的分子級污染提出了新的嚴格的要求。分子污染是指環境空氣中要嚴格控制例如鈉(Na)元素、碳(COx)元素、硫(SOx)元素、(NOx)元素等對半導體工藝有害的元素。因此在處理空氣時還要用淋水(淋自來水、淋純淨水)來吸收室外空氣中的有害分子成份和用化學過濾器來吸附新風中的有害分子成份。